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C3F8

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HALOCARBON 218 (C3F8) Perfluoropropane / Octafluoropropane Application Halocarbon 218 is use

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HALOCARBON 218 (C3F8)
Perfluoropropane / Octafluoropropane

Application

Halocarbon 218 is used for a chamber cleaning gas for semiconductor industry. C3F8 is used for the replacement of conventional chamber cleaning gas such as C2F6. The product was developed and commercialized in semi application by 3M.


Production Specification

Purity: 99.99%
Air < 80 ppmv
Other Organics < 10 ppmv
Acidity < 0.1 ppmv
H2O < 1 ppmw
Non-Volatile Residue <1 ppmw

Package
Cylinder
8L ~ 50L Steel Seamless Cylinder
1000L Steel Cylinder
Valve
Standard CGA valve
DISS valve
#C3F8#CVD#Chamber#Clean#Fluorocarbon#Halocarbon#外牆汙垢高壓清洗#廚餘回收廠商#台北公司設立登記

企業名片

  • 公司名稱:元佳宇有限公司
  • 連絡電話:07-6******
  • 電子郵件:ag**********@msa.hinet.net
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